主要功能具有熱ALD沉積氧化物、氮化物、貴金屬等薄膜材料的功能；具備未來等離子體增強ALD、Loadlock單元擴展功能。應用原子層沉積技術由于其沉積參數的高度可控型（厚度、成份和結構）原子層沉積（AtomicLayerDeposition，ALD），最初稱為原子層外延（AtomicLayerEpitaxy，ALE），也稱為原子層化學氣相沉積（AtomicLayerChemicalVaporDeposition，ALCVD）。原子層沉積是在一個加熱反應器中的襯底上連續引入至少...

粉末原子層沉積是一種薄膜制備技術。與傳統的原子層沉積（ALD）相比，利用粉末作為反應物源，實現了更高的生長速率和更大尺寸的薄膜覆蓋面積。在過去的幾年里，已經成為材料科學和工程領域的研究熱點，并在微電子、能源存儲、光電子等領域展示出巨大的潛力。粉末原子層沉積通過交替地引入氣體與粉末進行表面反應，將它的概念擴展到固體顆粒上。先在基材表面形成一個導電或非導電的種子層，然后將粉末在該種子層上均勻地分布。接下來，通過向反應室中引入適當的氣體，與粉末表面發生化學反應，使其在每個原子層上生...

真空蒸鍍是將固體材料（簡稱蒸鍍材料）在高真空環境中加熱，沉積在特定基板上，得到薄膜的過程。真空蒸鍍工藝主要用于微電子制造有源元件、器件觸點和金屬互連件、高精度低溫度系數薄膜電阻器，以及薄膜電容器的絕緣介質和電極。真空蒸發鍍膜通過真空蒸發工藝形成各種薄膜是集成電路制造的一項重要技術?？梢酝ㄟ^真空蒸發沉積多種材料，例如導電材料、介電材料、磁性材料和半導體材料。影響薄膜質量的關鍵過程在真空蒸發過程中，系統的真空度直接影響薄膜的質量。為了將蒸發原子或分子沉積在離蒸發源一定距離的基板上...

桌面式原子層沉積系統是一種精密的薄膜制備設備，具有廣泛的應用領域和重要的科學研究價值。桌面式原子層沉積系統是一種用于薄膜沉積的技術。它采用了原子層沉積（ALD）的工藝，在納米尺度上控制薄膜的成分和厚度。該系統由一個真空腔室、多個進樣閥和反應室組成。在ALD過程中，材料的前驅體交替地注入到反應室中，通過化學反應使得物質以原子或分子層的形式沉積在襯底表面上。這種逐層生長的方法可以實現較高的薄膜均勻性、控制薄膜的厚度和成分，從而得到高品質的薄膜材料。該系統具有以下關鍵特點。1、具有...

1、真空室涂層設備主要有連續涂層生產線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進行化學拋光處理，真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。2、真空獲得部分在真空技術中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的，必須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵系統等。3、真空測量部分真空系統的真空測量部分，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，...

原子層沉積是一種薄膜制備技術，被廣泛應用于納米電子器件、光學涂層和生物傳感器等領域。設備作為這一技術的核心工具，在納米材料研究與制備中發揮著重要的作用。原子層沉積設備是一種精密的氣相化學反應裝置，其基本原理是通過在材料表面逐個分子地進行反應，形成單層薄膜。該設備通常由氣體供給系統、反應室、真空系統和溫度控制系統等組成。在反應過程中，首先將所需前驅體氣體引入反應室，然后與表面發生化學反應，生成薄膜的一個原子層。之后，通過凈化氣體來清除未反應的前驅體和副產物，以確保下一層的純度。...

約瑟夫森結鍍膜設備是一種用于制造超導電子器件的設備。它基于約瑟夫森效應，該效應描述了在兩個超導體之間存在一個非常薄的障壁時，電流可以通過這個障壁而不受電阻的影響。約瑟夫森結具有很多重要的應用，包括量子比特、微波電子學和極低噪聲放大器等。該設備是一種專門用于生產約瑟夫森結的設備，在這個設備中，金屬材料被蒸發并在超導體表面形成一個非常薄的氧化層。這個氧化層可以作為障壁來控制電流的流動，從而實現約瑟夫森結的制造。約瑟夫森結鍍膜設備由多個關鍵部分組成，其中包括真空腔、蒸發源、樣品臺和...

控濺射原理電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，而二次電子在加速飛翔基材時，在磁場的洛侖茲力影響之下，呈現螺旋線狀與擺線的復合形式在靶表面做一系列圓周運動，該電子不但運動路徑長，還是被電磁場理論束博在靠近靶面的等離子體區域范圍內，于此區內電離出大量的Ar，對靶材進行轟擊，所以說磁控濺射鍍膜設備的沉積速率高。從而出現了磁控濺...

磁控濺射鍍膜機是一種常用于制備薄膜的設備，其基本原理是利用高能量電子轟擊靶材表面，使得靶材物質從表面剝離并沉積在基材上形成薄膜。這種技術可以制備各種類型的薄膜，包括金屬、氧化物、氮化物等，并且常用于制備電子器件中的金屬導電層、襯底層等。磁控濺射鍍膜機主要由靶材、基材、真空室、電源、電子束槍等組成。其中，靶材是濺射鍍膜機的關鍵部分，其選擇對于薄膜的性質和質量有著至關重要的影響?；膭t是需要被鍍覆薄膜的材料，通常是半導體晶片、光學元件、金屬器件等。真空室則是為了保證反應環境的純凈...

等離子體原子層沉積是一種基于化學反應的薄膜制備技術，利用等離子體增強的化學反應來實現單原子層沉積。它可以制備高質量、均勻、具有精確定位控制的納米薄膜，廣泛應用于微電子、光電子、傳感器、能源、儲存和生物醫學領域。該技術以等離子體為輔助，實現了原子水平的沉積控制。等離子體是一種由帶正或負電荷的電離分子和自由電子組成的高度激發態的氣體，通過高頻交流放電或射頻放電等方式產生。等離子體可以提供高能電子和活性化學物種，與前驅體氣體中的化學鍵斷裂和形成新化學鍵，實現表面反應沉積。技術中，前...