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                      真空鍍膜系統主要構成部分,你知道幾個(gè)?

                      更新時(shí)間:2023-07-11      點(diǎn)擊次數:586
                         1、真空室
                        涂層設備主要有連續涂層生產(chǎn)線(xiàn)及單室涂層機兩種形式,不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進(jìn)行化學(xué)拋光處理,真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。
                        2、真空獲得部分
                        在真空技術(shù)中,真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的,必須將幾種泵聯(lián)合使用,如機械泵、羅茨泵、分子泵系統等。
                        3、真空測量部分
                        真空系統的真空測量部分,就是要對真空室內的壓強進(jìn)行測量。像真空泵一樣,沒(méi)有一種真空計能測量整個(gè)真空范圍,人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類(lèi)的真空計。如熱偶計,電離計,皮拉尼計等。
                        4、電源供給部分
                        靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF),常見(jiàn)的電源廠(chǎng)商有AE,ADL,霍廷格等。
                        5、工藝氣體輸入系統
                        工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應,經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入系統的優(yōu)點(diǎn)是,管路簡(jiǎn)捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規模較大的涂層車(chē)間可能有機會(huì )看到。它的好處是,減少氣瓶占用量,統一規劃、統一布局。缺點(diǎn)是,由于接頭增多,使漏氣機會(huì )增加。而且,各涂層機之間會(huì )互相干擾,一臺涂層機的管路漏氣,有可能會(huì )影響到其他涂層機的產(chǎn)品質(zhì)量。此外,更換氣瓶時(shí),必須保證所有機臺都處于非用氣狀態(tài)。
                        6、機械傳動(dòng)部分
                        涂層要求周邊必須厚度均勻一致,因此,在涂層過(guò)程中須有三個(gè)轉動(dòng)量才能滿(mǎn)足要求。即在要求大工件臺轉動(dòng)(I)的同時(shí),小的工件承載臺也轉動(dòng)(II),并且工件本身還能同時(shí)自轉(III)。在機械設計上,一般是在大工件轉盤(pán)底部中央為一大的主動(dòng)齒輪,周?chē)且恍┬〉男切休喤c之嚙合,如果要實(shí)現產(chǎn)品自轉的話(huà),一般用撥叉撥動(dòng)工件自轉。
                        7、加熱及測溫部分
                        涂層設備一般有不同位置的加熱器,用熱電偶測控溫度。但是,由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同,溫度讀數不可能是工件的真實(shí)溫度。要想測得工件的真實(shí)溫度,有很多方法,可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。
                        8、離子蒸發(fā)及濺射源
                        多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形,俗稱(chēng)圓餅靶,也有長(cháng)方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵,通過(guò)前后移動(dòng)磁鐵,改變磁場(chǎng)強度,可調整弧斑移動(dòng)速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度,要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導電、導熱性,還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長(cháng)方形或圓柱形濺射陰極。
                        9、水冷系統
                        一般由冷水塔,冰水機,水泵等組成。

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