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                      磁控濺射鍍膜設備簡(jiǎn)介與優(yōu)點(diǎn)有哪些?

                      更新時(shí)間:2023-06-12      點(diǎn)擊次數:502
                        控濺射原理電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,而二次電子在加速飛翔基材時(shí),在磁場(chǎng)的洛侖茲力影響之下,呈現螺旋線(xiàn)狀與擺線(xiàn)的復合形式在靶表面做一系列圓周運動(dòng),該電子不但運動(dòng)路徑長(cháng),還是被電磁場(chǎng)理論束博在靠近靶面的等離子體區域范圍內,于此區內電離出大量的Ar,對靶材進(jìn)行轟擊,所以說(shuō)磁控濺射鍍膜設備的沉積速率高。
                        從而出現了磁控濺射鍍膜這個(gè)設備,該設備集控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體,對提高顏色一致性,沉積速率機化合物成分的穩定性提供了解決方案。根據不同的產(chǎn)品需求,可選配加熱系統,偏壓系統、離化系統等裝置,其靶位分布可靈活調整,膜層均勻性*,配備不同的靶材,可鍍制出性能更好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有復合力強,致密性強的優(yōu)點(diǎn),可有效提高產(chǎn)品的鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度,滿(mǎn)足了高性能膜層制備的需求。
                        該設備的適用材料豐富,可用于不銹鋼水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質(zhì)。該系列設備主要用于電子產(chǎn)品五金件、高檔鐘表、高檔首飾和品牌皮具的五金件等豐富產(chǎn)品。

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