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廈門韞茂科技有限公司成立于2018年,由硅谷海歸團隊創立,核心成員擁有超20年薄膜沉積工藝及設備開發產業化經驗,2021年入選高新技術企業,2022年入選廈門專精特新技術企業,是一家以納米級薄膜沉積工藝技術為核心的多領域全棧式薄膜沉積方案供應商,為客戶提供全面的技術解決方案以及先進的納米材料薄膜沉積裝備,針對先進制造國產化的痛點,開發自主設備。

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  • 電子束蒸發鍍膜是一種常用的表面涂層技術,它利用電子束加熱材料至高溫,使其蒸發并形成蒸汽,然后這些蒸汽會在冷卻的過程中沉積在基材表面形成薄膜。這種技術在材料科學、微納加工、光學和電子學等領域有廣泛應用。物理特性:1.高真空環境:過程通常在高真空環境中進行,以避免蒸汽在到達基材之前與空氣中的分子發生不必要的化學反應。2.高溫蒸發:被電子束擊中的材料會瞬間加熱至較高溫度,足以使其蒸發形成蒸汽。3.蒸發速率:電子束的功率密度和材料的熱物理性質決定了蒸發速率,進而影響鍍膜的厚度和均勻性...
  • 磁控濺射鍍膜機由于其優良的性能,如高沉積速率、良好的薄膜質量以及能夠在復雜形狀的基材上沉積薄膜等,被廣泛應用于各種工業領域。然而,如何選擇目標材料并優化工藝以提高鍍膜效率及質量,仍是一個需要深入研究的問題。一、目標材料的選擇在選擇目標材料時,需要考慮材料的物理化學性質、穩定性、附著性等多個因素。一些常用的磁控濺射鍍膜材料包括金、銀、銅、鋁、鈦、鎳等金屬及其合金。對于不同的應用場景,需要選擇不同的材料。例如,金和銀由于其優良的導電性和穩定性,常常被用于電子工業;而鈦和鎳由于其良...
  • 等離子體原子層沉積利用等離子體輝光放電的能量將氣體分子分解成原子或分子,然后通過物理或化學過程沉積在基片表面形成薄膜。該技術的主要特點是能夠實現原子層級別的控制,具有較高的薄膜質量、沉積速率快、反應氣體種類多等特點。它是在等離子體輝光放電的條件下,將氣體分子分解成原子或分子,然后通過物理或化學過程沉積在基片表面形成薄膜。該技術的主要特點是能夠實現原子層級別的控制,具有較高的薄膜質量、沉積速率快、反應氣體種類多等特點。等離子體原子層沉積技術的優點在于其能夠實現高度均勻的薄膜沉積...

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  • 粉末原子層沉積(PALD)技術在半導體工業中的應用日益廣泛,為納米制造領域帶來了革命性的突破。半導體工業對材料的質量和精確度的要求高,而PALD技術以其優勢滿足了這些要求。PALD技術通過逐層沉積的方式,在基底上精確控制材料的原子層厚度,從而實現了納米級的制造精度。這種技術不僅可以制備高質量的薄膜,還能夠實現復雜的三維結構,為半導體器件的設計提供了更大的靈活性。在半導體工業中,PALD技術被廣泛應用于制備高性能的介質層、阻擋層和導電層等。介質層在半導體器件中起到絕緣和隔離的作...
  • 磁控濺射鍍膜機是一種高精度、高效率的表面處理設備,其應用范圍非常廣泛。以下是一些常見的應用領域:功能性薄膜:磁控濺射鍍膜技術可以制備各種功能性薄膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。這些薄膜可應用于太陽能電池、平板顯示器件、傳感器等領域。裝飾領域:磁控濺射鍍膜技術可以制備各種全反射膜及半透明膜等,如手機外殼、鼠標等產品的表面處理。這些膜層具有高光澤度、高硬度和耐劃痕等特點,能夠提高產品的外觀質量和耐久性。微電子領域:磁控濺射鍍膜技術可以作為非熱式鍍膜技術,應用于...
  • 磁控濺射鍍膜機具有廣泛的應用領域,具體如下:功能薄膜領域:各種功能性薄膜,如吸收、透射、反射、折射、偏振等作用的薄膜,例如低溫沉積氮化硅減反射膜,以提高太陽能電池的光電轉換效率。裝飾領域:各種全反射膜及半透明膜等,如手機外殼、鼠標等。微電子領域:作為非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機物化學氣相沉積(MOCVD)中,用于生長薄膜材料。光學領域:中頻閉合場非平衡磁控濺射技術已應用于光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面。透明導電玻璃廣泛應用于...

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